已知SiF4(g)、SiCl4(g)的標準生成吉布斯函數(shù)(△fGΘm)分別為-1506和-569.8(kJ•mol-1),試用計算說明為什么HF(g)可以腐蝕SiO2,而HCl(g)則不能?
計算合成氨反應N2(g)+3H2(g)=2NH3(g)在673K時的標準平衡常數(shù),并指出在673K,下列三種情況下反應向何方向進行?