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1 刻蝕是把進行光刻前所沉積的薄膜厚度約在數千到數百A之間中沒有被（）覆蓋及保護的部分，以化學作用或是物理作用的方式加以去除，以完成轉移掩膜圖案到薄膜上面的目的。

2 在空位擴散中，如果遷移的空位的原子是雜質原子，擴散稱為（）。

3 損傷的分布與注入離子在在靶內的（）的分布密切相關。

4 用g線和i線進行曝光時通常使用哪種光刻膠（）。

5 在集成電路工藝中，光復制圖形和材料刻蝕相結合的工藝技術是（）。

集成電路制造工藝員（三級）單項選擇題每日一練(2019.01.21)