單項選擇題

下頜舌側(cè)牙槽嵴形態(tài)為斜坡型者，舌桿應(yīng)（）

A.與黏膜接觸或離開黏膜0.3mm～0.4mm，并與牙槽嵴平行
B.與黏膜平行，不接觸，離開黏膜3～4mm
C.與黏膜平行，并緊密接觸
D.與黏膜垂直，并離開少許
E.以上都不對

在線練習(xí)

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單項選擇題

可摘局部義齒模型設(shè)計的目的不是確定（）

A.基牙的分布
B.卡環(huán)的類型
C.義齒的就位道
D.義齒的支持類型
E.基托伸展的范圍

單項選擇題

間接固位體與游離端基托位于支點線的（）

A.同側(cè)，距支點線越遠對抗轉(zhuǎn)動的力越強
B.同側(cè)，距支點線越近對抗轉(zhuǎn)動的力越強
C.兩側(cè)，距支點線越遠對抗轉(zhuǎn)動的力越強
D.兩側(cè)，距支點線越近對抗轉(zhuǎn)動的力越強
E.兩側(cè)，距支點線越遠對抗轉(zhuǎn)動的力越弱

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下頜舌側(cè)牙槽嵴形態(tài)為斜坡型者，舌桿應(yīng)（）

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